substrat MgO
Katerangan
Substrat tunggal MgO tiasa dianggo pikeun nyiptakeun alat komunikasi sélulér anu diperyogikeun pikeun saringan gelombang mikro superkonduktor suhu luhur sareng alat anu sanés.
Kami nganggo polishing mékanis kimiawi anu tiasa disiapkeun pikeun tingkat atom kualitas luhur permukaan produk, ukuran substrat panggedena 2"x 2"x0.5mm sayogi.
Pasipatan
| Métode Tumuwuh | Lebur Arc Husus |
| Struktur Kristal | Kubik |
| Crystallographic Kisi Konstan | a=4.216Å |
| Kapadetan (g/cm3） | 3.58 |
| Titik lebur (℃) | 2852 |
| Kamurnian Kristal | 99,95% |
| Konstanta diéléktrik | 9.8 |
| Ékspansi termal | 12.8ppm/℃ |
| Pesawat Beulahan | <100> |
| Transmisi optik | > 90%（200~400nm）,>98%（500~1000nm） |
| Préféksi kristal | Teu aya inklusi anu katingali sareng retakan mikro, kurva goyang X-Ray sayogi |
Mgo Substrat Harti
MgO, pondok pikeun magnésium oksida, mangrupakeun substrat kristal tunggal ilahar dipaké dina widang déposisi film ipis jeung tumuwuhna epitaxial.Cai mibanda struktur kristal kubik jeung kualitas kristal alus teuing, sahingga idéal pikeun tumuwuh film ipis kualitas luhur.
Substrat MgO dipikanyaho pikeun permukaanna anu mulus, stabilitas kimiawi anu luhur, sareng dénsitas cacad anu rendah.Sipat ieu ngajantenkeun aranjeunna idéal pikeun aplikasi sapertos alat semikonduktor, média rékaman magnét, sareng alat optoeléktronik.
Dina déposisi film ipis, substrat MgO nyadiakeun témplat pikeun tumuwuhna rupa-rupa bahan kaasup logam, semikonduktor jeung oksida.Orientasi kristal substrat MgO tiasa dipilih sacara saksama pikeun cocog sareng pilem epitaxial anu dipikahoyong, mastikeun tingkat alignment kristal anu luhur sareng ngaminimalkeun mismatch kisi.
Sajaba ti éta, substrat MgO dipaké dina média rekaman magnét alatan kamampuhna nyadiakeun struktur kristal kacida maréntahkeun.Hal ieu ngamungkinkeun pikeun alignment leuwih efisien domain magnét dina médium rekaman, hasilna kinerja gudang data hadé.
Kacindekanana, substrat tunggal MgO mangrupikeun substrat kristalin kualitas luhur anu dianggo salaku citakan pikeun pertumbuhan epitaxial film ipis dina sababaraha aplikasi, kalebet semikonduktor, optoeléktronik, sareng média rékaman magnét.
